Verze 2025.01
jazyk
      Index    
S   C K CHEMIE ; HUTNICTVÍ
C   C23 K POVLÉKÁNÍ KOVOVÉHO MATERIÁLU ; POVLÉKÁNÍ MATERIÁLU KOVOVÝM MATERIÁLEM ; CHEMICKÁ ÚPRAVA POVRCHU ; ZPRACOVÁNÍ KOVOVÉHO MATERIÁLU DIFÚZÍ ; POVLÉKÁNÍ VAKUOVÝM NAPAŘOVÁNÍM, NAPRAŠOVÁNÍM, IONTOVOU IMPLANTACÍ NEBO CHEMICKOU DEPOZICÍ Z PLYNNÉ FÁZE VŠEOBECNĚ ; ZABRÁNĚNÍ KOROZI KOVOVÉHO MATERIÁLU NEBO TVORBĚ NÁNOSŮ VŠEOBECNĚ [2]
U   C23C K POVLÉKÁNÍ KOVOVÉHO MATERIÁLU ; POVLÉKÁNÍ MATERIÁLU KOVOVÝM MATERIÁLEM ; POVRCHOVÁ ÚPRAVA KOVOVÉHO MATERIÁLU DIFÚZÍ DO POVRCHU, CHEMICKOU PŘEMĚNOU NEBO SUBSTITUCÍ ; POVLÉKÁNÍ VAKUOVÝM NAPAŘOVÁNÍM, NAPRAŠOVÁNÍM, IONTOVOU IMPLANTACÍ NEBO CHEMICKOU DEPOZICÍ Z PLYNNÉ FÁZE VŠEOBECNĚ ( výroba výrobků s kovovými povlaky vytlačováním B21C 23/22 ; povlékání kovem spojením již existujících vrstev s výrobky, viz příslušná místa, např. B21D 39/00 , B23K ; pokovování skla C03C ; pokovování malt, betonu, umělého kamene, keramických materiálů nebo přírodního kamene C04B 41/00 ; smaltování kovů nebo nanášení skelného povlaku na kovy C23D ; úprava kovových povrchů nebo povlékání kovů elektrolýzou nebo elektroforézou C25D ; pěstování monokrystalického filmu C30B ; pokovováním textilií D06M 11/83 ; zdobení textilií místním pokovováním D06Q 1/04 ) [4]
M   C23C 16/00 K Chemické povlékání rozkladem plynných sloučenin bez zanechání reakčních produktů povrchového materiálu v povlaku, tj. postupy chemické depozice z plynné fáze [CVD] ( reaktivní naprašování nebo vakuové napařování C23C 14/00 ) [4,8]
1   C23C 16/01 K  ·   na dočasných substrátech, např. na substrátech, které se následně odstraní leptáním [7,8]
1   C23C 16/02 K  ·   Předběžná úprava materiálu, který se má povlékat ( C23C 16/04 má přednost ) [4,8]
1   C23C 16/04 K  ·   Povlékání na vybraných částech povrchu, např. použití masek [4,8]
1   C23C 16/06 K  ·   vyznačené depozicí kovového materiálu [4,8]
2   C23C 16/08 K  ·   ·   z halogenidů kovů [4,8]
3   C23C 16/10 K  ·   ·   ·   Depozice pouze chromu [4,8]
3   C23C 16/12 K  ·   ·   ·   Depozice pouze hliníku [4,8]
3   C23C 16/14 K  ·   ·   ·   Depozice pouze jednoho jiného kovového prvku [4,8]
2   C23C 16/16 K  ·   ·   ze sloučenin karbonylů kovů [4,8]
2   C23C 16/18 K  ·   ·   z organokovových sloučenin [4,8]
3   C23C 16/20 K  ·   ·   ·   Depozice pouze hliníku [4,8]
1   C23C 16/22 K  ·   vyznačené depozicí anorganického materiálu jiného než kovový materiál [4,8]
2   C23C 16/24 K  ·   ·   Depozice pouze křemíku [4,8]
2   C23C 16/26 K  ·   ·   Depozice pouze uhlíku [4,8]
3   C23C 16/27 K  ·   ·   ·   Pouze diamantu [7,8]
2   C23C 16/28 K  ·   ·   Depozice pouze jednoho jiného nekovového prvku [4,8]
2   C23C 16/30 K  ·   ·   Depozice sloučenin, směsí nebo pevných roztoků, např. boridů, karbidů, nitridů [4,8]
3   C23C 16/32 K  ·   ·   ·   Karbidy [4,8]
3   C23C 16/34 K  ·   ·   ·   Nitridy [4,8]
3   C23C 16/36 K  ·   ·   ·   Karbonitridy [4,8]
3   C23C 16/38 K  ·   ·   ·   Boridy [4,8]
3   C23C 16/40 K  ·   ·   ·   Oxidy [4,8]
3   C23C 16/42 K  ·   ·   ·   Silicidy [4,8]
1   C23C 16/44 K  ·   vyznačené způsobem povlékání ( C23C 16/04 má přednost ) [4,8]
2   C23C 16/442 K  ·   ·   použitím postupů ve fluidním loži [7,8]
2   C23C 16/448 K  ·   ·   vyznačené způsobem používaným pro vytváření proudů reaktivních plynů, např. odpařováním nebo sublimací prekurzorových materiálů [7,8]
3   C23C 16/452 K  ·   ·   ·   aktivací proudů reaktivních plynů před zavedením do reakční komory, např. ionizací nebo přidáním reaktivních forem [7,8]
2   C23C 16/453 K  ·   ·   vedením reakčních plynů skrze hořáky nebo plameny, např. CVD za atmosférického tlaku ( C23C 16/513 má přednost ; pro stříkání plamenem nebo plazmové stříkání povlékacího materiálu v roztaveném stavu C23C 4/00 ) [7,8]
2   C23C 16/455 K  ·   ·   vyznačené způsobem používaným pro zavádění plynů do reakční komory nebo pro modifikaci průtoků plynů v reakční komoře [7,8]
2   C23C 16/458 K  ·   ·   vyznačené způsobem používaným pro podepření substrátů v reakční komoře [7,8]
2   C23C 16/46 K  ·   ·   vyznačené způsobem použitým pro ohřev substrátu ( C23C 16/48 , C23C 16/50 mají přednost ) [4,8]
2   C23C 16/48 K  ·   ·   ozařováním, např. fotolýzou, radiolýzou, částicovým zářením [4,8]
2   C23C 16/50 K  ·   ·   použitím elektrických výbojů [4,8]
3   C23C 16/503 K  ·   ·   ·   použitím stejnosměrných nebo střídavých výbojů [7,8]
3   C23C 16/505 K  ·   ·   ·   použitím radiofrekvenčních výbojů [7,8]
4   C23C 16/507 K  ·   ·   ·   ·   použitím vnějších elektrod, např. v reaktorech tunelového typu [7,8]
4   C23C 16/509 K  ·   ·   ·   ·   použitím vnitřních elektrod [7,8]
3   C23C 16/511 K  ·   ·   ·   použitím mikrovlnných výbojů [7,8]
3   C23C 16/513 K  ·   ·   ·   použitím plazmových trysek [7,8]
3   C23C 16/515 K  ·   ·   ·   použitím pulzních výbojů [7,8]
3   C23C 16/517 K  ·   ·   ·   použitím kombinace výbojů zahrnutých ve dvou nebo více ze skupin C23C 16/503 - C23C 16/515 [7,8]
2   C23C 16/52 K  ·   ·   Kontrola nebo regulace postupu povlékání [4,8]
2   C23C 16/54 K  ·   ·   Zařízení zvlášť upravené pro kontinuální povlékání [4,8]
1   C23C 16/56 K  ·   Následná úprava [4,8]