|
|
|
Index |
|
|
S |
|
C |
K |
CHEMIE
;
HUTNICTVÍ
|
C |
|
C30 |
K |
PĚSTOVÁNÍ KRYSTALŮ
[3]
|
U |
|
C30B |
K |
PĚSTOVÁNÍ MONOKRYSTALŮ
(
použitím ultravysokého tlaku, např. pro výrobu diamantů
B01J 3/06
)
JEDNOSMĚRNÉ TUHNUTÍ EUTEKTICKÉHO MATERIÁLU NEBO JEDNOSMĚRNÉ ODMÍŠENÍ EUTEKTOIDNÍHO MATERIÁLU
;
RAFINACE ZONÁLNÍM TAVENÍM MATERIÁLU
(
zonální rafinace kovů nebo slitin
C22B
)
VÝROBA HOMOGENNÍHO POLYKRYSTALICKÉHO MATERIÁLU S DEFINOVANOU STRUKTUROU
(
lití kovů, lití jiných látek týmiž postupy nebo zařízeními
B22D
;
zpracování plastických materiálů
B29
;
modifikace fyzikální struktury kovů nebo slitin
C21D
,
C22F
)
MONOKRYSTALY NEBO HOMOGENNÍ POLYKRYSTALICKÝ MATERIÁL S DEFINOVANOU STRUKTUROU
;
NÁSLEDNÁ ÚPRAVA MONOKRYSTALŮ NEBO HOMOGENNÍHO POLYKRYSTALICKÉHO MATERIÁLU S DEFINOVANOU STRUKTUROU
(
pro výrobu polovodičových konstrukčních prvků nebo jejich součástí
H01L
,
H10
)
ZAŘÍZENÍ PRO TYTO ÚČELY
[3]
|
M |
|
C30B 23/00 |
K |
Pěstování monokrystalů kondenzací vypařených nebo sublimovaných materiálů
[3,8]
|
1 |
|
C30B 23/02 |
K |
·
Růst epitaxní vrstvy
[3,8]
|
2 |
|
C30B 23/04 |
K |
· ·
Nanášení do vzorů, např. použitím masek
[3,8]
|
2 |
|
C30B 23/06 |
K |
· ·
Zahřívání depoziční komory, substrátu nebo materiálů, které se mají vypařovat
[3,8]
|
2 |
|
C30B 23/08 |
K |
· ·
kondenzací ionizovaných par
(
reaktivním naprašováním
C30B 25/06
)
[3,8]
|