Verze 2025.01
jazyk
      Index    
S   H K ELEKTŘINA
C   H05 K ELEKTROTECHNIKA JINDE NEZAŘAZENÁ
U   H05H K PLAZMOVÁ TECHNIKA ( zařízení nebo postupy zvlášť upravené pro výrobu rentgenových paprsků H05G 2/00 ) VÝROBA URYCHLENÝCH ČÁSTIC S ELEKTRICKÝM NÁBOJEM NEBO NEUTRONŮ ; VÝROBA NEBO URYCHLOVÁNÍ SVAZKŮ NEUTRÁLNÍCH MOLEKUL NEBO ATOMŮ
M   H05H 1/00 K Vytváření plazmy ; Zacházení s plazmou ( použití plazmové techniky v reaktorech s termonukleární fúzí G21B 1/00 ) [1,8]
1   H05H 1/02 K  ·   Zařízení pro ovládání plazmy elektrickými nebo magnetickými poli ; Zařízení pro ohřev plazmy ( elektronová optika H01J ) [1,8]
2   H05H 1/03 K  ·   ·   používající elektrostatických polí [3,8]
2   H05H 1/04 K  ·   ·   používající magnetických polí, vznikajících výbojem v plazmě [1,8]
3   H05H 1/06 K  ·   ·   ·   Podélné uchycování ústrojí [1,8]
3   H05H 1/08 K  ·   ·   ·   Uchycování ústrojí ve tvaru theta [1,8]
2   H05H 1/10 K  ·   ·   používající pouze přiloženého magnetického pole [1,8]
3   H05H 1/11 K  ·   ·   ·   používající hrotové uspořádání ( H05H 1/14 má přednost ) [3,8]
3   H05H 1/12 K  ·   ·   ·   kde objem nádoby tvoří uzavřenou smyčku, např. stellarator [1,8]
3   H05H 1/14 K  ·   ·   ·   kde objem nádoby má přesný tvar a je opatřen magnetickými zrcadly [1,8]
2   H05H 1/16 K  ·   ·   používající přiložených elektrických a magnetických polí [1,8]
3   H05H 1/18 K  ·   ·   ·   kde pole kmitají na velmi vysokých kmitočtech, např. v oblasti velmi krátkých vln [1,8]
2   H05H 1/20 K  ·   ·   Odporový ohřev [1,8]
2   H05H 1/22 K  ·   ·   pro vstřikovací ohřev [1,8]
1   H05H 1/24 K  ·   Vytváření plazmy [2,8]
2   H05H 1/26 K  ·   ·   Plazmové hořáky (generátory) [2,8]
3   H05H 1/28 K  ·   ·   ·   Chladicí zařízení [3,8]
3   H05H 1/30 K  ·   ·   ·   používající přiložených elektromagnetických polí, např. vysokofrekvenční nebo mikrovlnné energie ( H05H 1/28 má přednost ) [3,8]
3   H05H 1/32 K  ·   ·   ·   používající oblouku ( H05H 1/28 má přednost ) [3,8]
4   H05H 1/34 K  ·   ·   ·   ·   Podrobnosti, např. elektrody, trysky [3,8]
5   H05H 1/36 K  ·   ·   ·   ·   ·   Uspořádání obvodů ( H05H 1/38 , H05H 1/40 mají přednost ) [3,8]
5   H05H 1/38 K  ·   ·   ·   ·   ·   Řízení nebo středění elektrod [3,8]
5   H05H 1/40 K  ·   ·   ·   ·   ·   používající přiložených magnetických polí, např. pro zaostřování nebo otáčení (rotaci) oblouku [3,8]
4   H05H 1/42 K  ·   ·   ·   ·   s opatřeními pro zavádění látek do plazmy, např. prášku nebo kapaliny [3,8]
4   H05H 1/44 K  ·   ·   ·   ·   používající více než jednoho hořáku [3,8]
2   H05H 1/46 K  ·   ·   používající přiložených elektromagnetických polí, např. vysokofrekvenční nebo mikrovlnnou energii ( H05H 1/26 má přednost ) [3,8]
2   H05H 1/48 K  ·   ·   používající oblouku ( H05H 1/26 má přednost ) [3,8]
3   H05H 1/50 K  ·   ·   ·   a používající přiložených magnetických polí, např. pro zaostření nebo otáčení (rotaci) oblouku [3,8]
2   H05H 1/52 K  ·   ·   používající vybuchovacích drátů nebo jiskřišť ( H05H 1/26 má přednost ) [3,8]
1   H05H 1/54 K  ·   Plazmové urychlovače [3,8]